Plik:Argonne's Tribology Lab Plasma-Assisted Chemical-Vapor Deposition.jpg

Wikimedia Polska, polski partner Fundacji Wikimedia.
Przejdź do nawigacji Przejdź do wyszukiwania

Rozmiar pierwotny ‎(3000 × 2855 pikseli, rozmiar pliku: 2,66 MB, typ MIME: image/jpeg)

Logo Wikimedia Commons Plik Argonne's Tribology Lab Plasma-Assisted Chemical-Vapor Deposition.jpg znajduje się w Wikimedia Commons – repozytorium wolnych zasobów. Dane z jego strony opisu znajdują się poniżej.
Opis This commercial system was designed for the semiconductor field and contains three 8"-diameter targets that can be run individually or simultaneously to deposit metallic or dielectric film son substrates ranging up to 24" in diameter. See the entire <a href="http://www.transportation.anl.gov/facilities/tribology_tour.html">Tribology Laboratory photo tour</a>. View more about Argonne's transportation research at <a href="http://www.transportation.anl.gov">www.transportation.anl.gov</a>. Photo courtesy of <a href="http://www.anl.gov">Argonne National Laboratory</a>.
Data
Źródło Flickr: Argonne's Tribology Lab: Plasma-Assisted Chemical-Vapor Deposition
Autor Argonne National Laboratory
Licencja
(Ponowne użycie tego pliku)
Ta grafika, umieszczona pierwotnie w serwisie Flickr, została przesłana na Commons przy wykorzystaniu Flickr upload bot dnia 27 października 2011, 02:16 przez użytkownika Oaktree b. Tego dnia potwierdzono, że plik był dostępny na warunkach poniższej licencji.
w:pl:Licencje Creative Commons
uznanie autorstwa na tych samych warunkach
Ten plik udostępniony jest na licencji Creative Commons Uznanie autorstwa – Na tych samych warunkach 2.0.
Wolno:
  • dzielić się – kopiować, rozpowszechniać, odtwarzać i wykonywać utwór
  • modyfikować – tworzyć utwory zależne
Na następujących warunkach:
  • uznanie autorstwa – musisz określić autorstwo utworu, podać link do licencji, a także wskazać czy utwór został zmieniony. Możesz to zrobić w każdy rozsądny sposób, o ile nie będzie to sugerować, że licencjodawca popiera Ciebie lub Twoje użycie utworu.
  • na tych samych warunkach – Jeśli zmienia się lub przekształca niniejszy utwór, lub tworzy inny na jego podstawie, można rozpowszechniać powstały w ten sposób nowy utwór tylko na podstawie tej samej lub podobnej licencji.

Podpisy

Dodaj jednolinijkowe objaśnienie tego, co ten plik pokazuje

Obiekty przedstawione na tym zdjęciu

przedstawia

typ MIME

image/jpeg

suma kontrolna

506b2995b552be37ad165e82d28f39fa33c5eb0a

metoda określenia: SHA-1

ilość danych

2 790 834 bajt

wysokość

2855 piksel

szerokość

3000 piksel

Historia pliku

Kliknij na datę/czas, aby zobaczyć, jak plik wyglądał w tym czasie.

Data i czasMiniaturaWymiaryUżytkownikOpis
aktualny04:17, 27 paź 2011Miniatura wersji z 04:17, 27 paź 20113000 × 2855 (2,66 MB)Flickr upload botUploaded from http://flickr.com/photo/35734278@N05/3469453524 using Flickr upload bot

Poniższa strona korzysta z tego pliku:

Globalne wykorzystanie pliku

Ten plik jest wykorzystywany także w innych projektach wiki:

Metadane

Niniejszy plik zawiera dodatkowe informacje, prawdopodobnie dodane przez aparat cyfrowy lub skaner użyte do wygenerowania tego pliku.

Jeśli plik był modyfikowany, dane mogą być częściowo niezgodne z parametrami zmodyfikowanego pliku.

Źródło: „https://pl.wikimedia.org/wiki/Plik:Argonne%27s_Tribology_Lab_Plasma-Assisted_Chemical-Vapor_Deposition.jpg”